相移掩模及其制造方法

摘要

一种相移掩模及其制造方法，该相移掩模带有沟槽，该沟槽是通过将相移膜图形边缘所在的透明衬底部分蚀刻一定深度得到的，因而能防止由于使用Levenson型相移掩模而留下不希望有的光致抗蚀剂膜的残留物之现象。$#!

主权项

1.一种相移掩模，包括：一透明衬底；在该透明衬底上所形成的多个遮光膜图形；在该透明衬底上形成的相移膜图形，该相移膜图形保护两个相邻遮光膜图形的侧壁，并且在这两个遮光膜图形的纵向以预定距离延伸；通过使用遮光膜图一形和光致抗蚀剂膜作为掩模、沿着相移膜图形的边缘以预定深度蚀刻透明衬底的一部分所形成的一沟槽。