| 发明名称 |
REMOVAL OF SILICON OXYNITRIDE MATERIAL USING A WET CHEMICAL PROCESS AFTER GATE ETCH PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1190444(A2) |
申请公布日期 |
2002.03.27 |
| 申请号 |
EP20000992786 |
申请日期 |
2000.11.07 |
| 申请人 |
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. |
发明人 |
YEH, EDWARD |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/027;H01L21/28;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/314;H01L21/3213;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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