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发明名称 METHOD AND SYSTEM OF CLEANING A WAFER AFTER CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OR PLASMA PROCESSING
摘要
申请公布号 EP1190441(A1) 申请公布日期 2002.03.27
申请号 EP20000943063 申请日期 2000.06.23
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 FARBER, JEFFREY, J.;SVIRCHEVSKI, JULIA, S.
分类号 H01L21/304;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
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