发明名称 |
Process of removing CMP scratches in a dielectric layer by a reflow step, and integrated circuit chip formed thereby |
摘要 |
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申请公布号 |
EP0887848(B1) |
申请公布日期 |
2002.03.27 |
申请号 |
EP19980110283 |
申请日期 |
1998.06.05 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
WISE, MICHAEL |
分类号 |
H01L21/304;H01L21/3105;H01L21/316;H01L21/768;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/310;H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/304 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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