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发明名称
Method of gate doping by ion implantation
摘要
申请公布号
US6362055(B1)
申请公布日期
2002.03.26
申请号
US09/144527
申请日期
1998.08.31
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
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地址
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