发明名称 光罩结构
摘要 一种光罩结构。在本发明之光罩结构的基材上具有沟渠,原为平面式设计的基材之上表面改成沟渠式设计。运用此结构,可避免微粒被吹至薄膜上,进而使护膜框黏着胶的寿命延长至少两倍且根除由此护膜框所导致的缺陷。
申请公布号 TW480365 申请公布日期 2002.03.21
申请号 TW090115856 申请日期 2001.06.28
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 吴振名;褚伯韬;邱颂盛;郑智文
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种光罩结构,至少包括:一基材,具有一沟渠;一薄膜,位于该基材上;一黏着胶,位在该基材上,且该黏着胶填入于该沟渠中;一护膜框,位在该黏着胶上,其中该沟渠系位于该基材与该护膜框之交界处;以及一护膜,固定在该护膜框上。2.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该基材系以石英制成。3.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该薄膜上含有一线路图案。4.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该薄膜系以铬制成。5.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该黏着胶系以聚胺基甲酸酯制成。6.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该黏着胶系以聚链烯制成。7.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该护膜覆盖在该护膜框上。8.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该沟渠可为任意形状。9.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该黏着胶系完全填入于该沟渠中。10.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该沟渠的深度约为1mm至3mm。11.如申请专利范围第1项所述之光罩结构,其中该基材的上表面略高于该黏着胶的上表面约0.5mm。12.一种光罩结构,至少包括:一基材,具有复数个沟渠;一薄膜,位于该基材上;复数个黏着胶,位在该基材上,且该些黏着胶填入于该些沟渠中;一护膜框,位在该些黏着胶上,其中该些沟渠系位于该基材与该护膜框之交界处;以及一护膜,固定在该护膜框上。13.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该基材系以石英制成。14.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该薄膜上含有一线路图案。15.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该薄膜系以铬制成。16.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该些黏着胶系以聚胺基甲酸酯制成。17.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该些黏着胶系以聚链烯制成。18.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该护膜覆盖在该护膜框上。19.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该些沟渠为任意形状。20.如申请专利范围第12所述之光罩结构,其中该些黏着胶系完全填入于该些沟渠中。21.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该些沟渠的深度约为1mm至3mm。22.如申请专利范围第12项所述之光罩结构,其中该基材的上表面略高于该些黏着胶的上表面约0.5mm。图式简单说明:第1图为习知光罩结构的侧视剖面图;第2图为在习知的光罩结构中,经由氮气枪的吹拭,基材与护膜框的交界处之微粒被吹进护膜框内而落在薄膜上的示意图;第3图为在习知的光罩结构中,经由氮气枪的吹拭,老化的黏着胶剥落所形成之微粒被吹进护膜框内而落在薄膜上的示意图;以及第4图为本发明中之一较佳实施例的光罩结构之剖面图。
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