发明名称 METHOD OF MANUFACTURING SPUTTER TARGETS WITH INTERNAL COOLING CHANNELS
摘要 <p>La présente invention se rapporte à des procédés de renforcement de la pression à basse température qui permettent de lier un matériau de cible à un matériau de plaque support capable de résister à des contraintes imposées par des taux élevés de pulvérisation. Les ensembles cibles de pulvérisation conformes à la présente invention sont de préférence composés de matériaux pour cible et de matériaux pour plaque de support qui présentent des coefficients de dilatation thermique différents et comportent des canaux de refroidissement internes intégrés. Dans la réalisation préférée, le lien résultant et l'ensemble des canaux de refroidissement coopèrent l'un avec l'autre.</p>
申请公布号 WO2002022300(A1) 申请公布日期 2002.03.21
申请号 US2001028411 申请日期 2001.09.11
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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