发明名称 用于在参考校准目标中设置校准补片的方法
摘要 一种用于在照相元件上定位参考校准补片的方法,包括以下步骤:对所述照相元件曝光形成参考校准目标的潜影图像,所述参考校准目标具有二维的条形码符号和参考校准补片,所述二维条形码符号具有指示特征,所述参考校准补片和所述二维条形码符号的指示特征具有已知的空间关系;处理所述照相元件,使得由潜影图像形成密的图像;扫描所述密的图像而形成数字图像;在数字图像中定位所述二维条形码符号的指示器特征,并在数字图像中相对于指示器特征定位所述参考校准补片。
申请公布号 CN1340734A 申请公布日期 2002.03.20
申请号 CN01125503.X 申请日期 2001.08.09
申请人 伊斯曼柯达公司 发明人 J·T·基奇;J·P·斯彭斯
分类号 G03B7/24;G03B27/72;G06K9/00;G06K15/12 主分类号 G03B7/24
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 陈霁;陈景峻
主权项 1.一种照相元件,包括:a)基体;b)在所述基体上的感光层;以及c)在参考校准目标的光敏层内的潜影图像,所述参考校准目标具有参考校准补片和二维条形码符号,所述二维条形码符号具有指示特征,在所述参考校准补片和二维条形码符号的指示特征之间具有已知的空间关系。
地址 美国纽约州