| 摘要 |
<p>본 발명은 램프로딩방식의 정보기억장치에 사용할 수 있는 정보기억매체용 글라스세라믹 기판을 제공한다. 글라스세라믹 기판의 영율(GPa)/비중이 37 이상이고, AlO함유량(산화물 기준)이 0∼10중량미만인 것을 특징으로 하며, 주결정상으로서 2규산리튬(LiO·2SiO) 및 α-석영(α-SiO)을 가지고, 열팽창계수가 -50℃∼+70℃의 온도에서 65x10/℃∼130x10/℃의 범위이고, 연마 후의 표면조도 (Ra)(산술평균조도)가 9Å 이하이다.</p> |
