Reduction objective for microlithography, apparatus and method for projection exposure,申请号EP19990121205-传众专利搜索

发明名称	Reduction objective for microlithography, apparatus and method for projection exposure
摘要
申请公布号	EP1006389(A3)	申请公布日期	2002.03.20
申请号	EP19990121205	申请日期	1999.10.23
申请人	CARL ZEISS;CARL-ZEISS-STIFTUNG TRADING AS CARL ZEISS	发明人	SCHUSTER, KARL-HEINZ;BEIERL, HELMUT;ULRICH, WILHELM;KLEM, GREGOR;HERKOMMER, ALOIS, DR.;FUERTER, GERHARD
分类号	H01L21/027;G02B13/14;G02B13/24;G03F7/20;(IPC1-7):G02B13/24	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
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