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<p>PLACAS PARA FOTOMASCARAS DE DESPLAZADOR DE FASE EMPOTRADO, ATENUADO Y TRANSMISIVO, QUE COMPRENDEN AL MENOS UN MATERIAL POLIMERICO, PREFERENTEMENTE UN FLUORPOLIMERO AMORFO O UN FLUORPOLIMERO AMORFO AL QUE SE HA AÑADIDO UN ORGANOSILANO CON FUNCION DE FLUOR, Y ORGANOSILICATOS, O SUS COMBINACIONES, TENIENDO EL MATERIAL POLIMERICO: (A) UN INDICE DE REFRACCION (N) EN LA ESCALA DE 1,2 A 2,0, PREFERENTEMENTE EN LA ESCALA DE 1,26 A 1,8, A UNA LONGITUD DE ONDA LITOGRAFICA SELECCIONADA INFERIOR A 400 NM; Y (B) UN COEFICIENTE DE EXTINCION (K) EN LA ESCALA DE 0,04 A 0,8, Y PREFERENTEMENTE EN LA ESCALA DE 0,06 A 0,59, A LA LONGITUD DE ONDA LITOGRAFICA SELECCIONADA INFERIOR A 400 NM.</p> |
