| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Plasmaboot zur Aufnahme von plattenförmigen Substraten (3) und zur Behandlung derselben in einer Bearbeitungseinrichtung, wie z.B. einer Plasma-CVD-Anlage (PECVD) o.dgl., mit einer Vielzahl zueinander paralleler Aufnahmeplatten (2), wobei die Aufnahmeplatten (2) gegeneinander isoliert wechselweise mit den Ausgängen eines Hochfrequenz-Generators (HF-Generator) verbunden sind. Mit der Erfindung soll ein Plasmaboot geschaffen werden, welches eine automatische Bestückung erlaubt und bei dem insbesondere eine gleichmäßige Beschichtung der Substrate (3) bis in den Randbereich gewährleistet. Bei dem erfindungsgemäßen Plasmaboot sind die Substrate (3) durch Schwerkraft auf den Aufnahmeplatten (2) im wesentlichen horizontal liegend dreidimensional fixiert. Hierzu sind Aufnahmevorrichtungen (6) vorgesehen, in denen zur elektrischen Kontaktierung eine Dreipunktauflage mit Auflagestiften (1) angeordnet ist.</p> |
