发明名称 | 具粗化界面发光元件及其制作方法 | ||
摘要 | 一种具粗化界面发光元件及其制作方法。为提供一种提高发光元件汲光效率、便于发光元件品质管理的发光元件及其制造方法,提出本发明,其制作方法包括堆叠磊晶层及形成光阻层的制作基体、形成电极、以两道同调光束重叠形成干涉条纹投射于光阻层的曝光、在光阻层上得到光阻图案的显影及于基底上蚀刻光阻图案的图案转移;发光元件包括基底、电极与设置于基底与电极之间的透光层、活化层及下透光层;于透光层上具有粗化表面。 | ||
申请公布号 | CN1339828A | 申请公布日期 | 2002.03.13 |
申请号 | CN00123550.8 | 申请日期 | 2000.08.17 |
申请人 | 国联光电科技股份有限公司 | 发明人 | 陈泽澎;张智松;张豪麟 |
分类号 | H01L33/00;H01S5/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘领弟 |
主权项 | 1、一种具粗化界面发光元件的制作方法,它包括制作基体及形成电极;制作基体包括提供基底及于基底上堆叠磊晶层;其特征在于所述的制作基体还包括于磊晶层表面形成光阻层;在制作基体后还包括曝光、显影及图案转移:曝光为以两道同调光束重叠形成干涉条纹投射于光阻层,得到周期性条纹;显影为在光阻层上得到周期性表面粗化的光阻图案;图案转移为进行蚀刻,将光阻图案转移到基底。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |