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<p>반도체기기를 제조하는 방법은 에칭된 복합막을 기판 위에 형성하는 단계를 포함한다. 이 복합막은 질소원자들을 구비하나, 그것의 표면부분에는 질소원자들을 실질적으로 구비하지 않는다. 이 방법은, 화학증폭된 포토레지스트막을 복합막 위에 형성하는 단계, 그 포토레지스트막을 기설정된 패턴들에 따라 선택적으로 노광하는 단계, 그 포토레지스트막을 현상하여 패턴새겨진 레지스트막을 형성하는 단계, 및 패턴새겨진 레지스트막을 마스크로서 사용하여 복합막을 에칭하는 단계를 더 포함한다. 이 방법에 따르면, 생산량의 나빠짐을 피할 수 있고, 레지스트 노광 중에 발생된 프로톤산의 비활성화 현상이 장시간보관 이후에서조차 또는 재구성이 요구되는 경우에서조차 억업되어진다.</p> |
