| 摘要 |
<p>본 발명의 반도체 장치의 위치 정렬마크는, 제 1 금속배선층(6)의 막형성시에, 위치 정렬마크(4)의 오목부 내부에 형성되는 제 1 금속배선층(6)의, 측벽(4a, 4b)에 대향하는 면에는, 측벽(4a, 4b)과 거의 평행하게 되는 측면(60a, 60b, 61a, 61b)을 형성하기 위한 막형성 제어영역으로서의 볼록부(4A)를 구비하고 있다. 이것에 의해, 위치 정렬마크의 측벽에 막형성된 층의 위치검출을 용이하고도 정확하게 행할 수 있는 반도체 장치의 위치 정렬마크 및 그 제조방법을 제공하는 것이 가능하게 된다.</p> |
