一种掩模原版及用其测量挡板设定精度的方法

摘要

一种用于测量分步曝光机挡板的设定误差的方法，包括以下步骤：提供所述挡板和一具有一线性图形的掩摸原版，线性图形具有与由挡板形成的图形相同的形状；设定掩模原版和挡板，以对一光致抗蚀剂层曝光，使得发生第一种情况和第二种情况之一，当光致抗蚀剂层显影时由挡板形成的一第一图形和由掩模原版形成的第二图形是显现出来的时，发生第一种情况；当穿过挡板的光对光致抗蚀剂过曝光而在对光致抗蚀剂显影时第二图形不表现出来时，发生第二种情况；显影时观察光致抗蚀剂，以辨别发生了第一种情况还是第二种情况，在第一种情况，以第一图形和第二图形之间的尺寸之差来测量所述挡板的设定误差，以获得挡板的设定误差。$#!

主权项

1、一种用于测量分步曝光机挡板的设定误差的方法，所述挡板具有一预定的形状，该方法包括以下步骤：提供所述挡板和一具有一线性图形的掩模原版，所述线性图形具有与由所述挡板形成的图形相同的形状；设定掩模原版和挡板，以对一光致抗蚀剂层曝光，使得发生第一种情况和第二种情况之一，当光致抗蚀剂层显影时由挡板形成的一第一图形和由掩模原版形成的第二图形是显现出来的时，发生第一种情况；当穿过挡板的光对光致抗蚀剂过曝光而在对光致抗蚀剂显影时第二图形不表现出来时，发生第二种情况；显影时观察光致抗蚀剂，以辨别发生了第一种情况还是第二种情况，在第一种情况，以第一图形和第二图形之间的尺寸之差来测量所述挡板的设定误差，以获得挡板的设定误差。