| 摘要 |
Oppfinnelsen tilveiebringer en fremgangsmåte med sammensmeltede masker for fremstilling av mikromaskinerte innretninger generelt og især speilsammenstillinger for bruk i optiske skanningsinnretninger. Fremgangsmåten omfatter (a) tilveiebringelse av et substrat med en bestemt tykkelse, (b) påføring av et første maskeringslag på en første del av substratet og et andre maskeringslag på en andre del av substratet, idet det andre maskeringslag er minst like tykt som det første maskeringslag, (c) etsing av en del av det andre maskeringslag for å tilveiebringe en første eksponert del av substratet, (d) etsing av den første eksponerte del av substratet til en første dybde, (e) etsing av det andre maskeringslag for å tilveiebringe en andre, eksponert del av substratet, og (f) å etse samtidig den første eksponerte del av substratet til en andre dybde og den andre eksponerte del av substratet til en første dybde. Fremgangsmåten omfatter videre mønstring av det første maskeringslag før påføring av det andre maskeringslag for å tilveiebringe en andre del av substratet for etsning, og etsning av det første maskeringslag for å eksponere den andre del av substratet. Det første og andre maskeringslag påføres før etsning av substratet. |
