| 发明名称 |
Method of manufacturing a photomask |
| 摘要 |
After a shade pattern constituted by a resist film formed on a photomask is stripped, a new shade pattern constituted by a resist film is formed on the photomask to reclaim a photomask. |
| 申请公布号 |
US2002028395(A1) |
申请公布日期 |
2002.03.07 |
| 申请号 |
US20010954065 |
申请日期 |
2001.09.18 |
| 申请人 |
HITACHI, LTD. |
发明人 |
TANAKA TOSHIHIKO;HASEGAWA NORIO;TERASAWA TSUNEO |
| 分类号 |
G03F1/08;G03F1/00;G03F1/14;G03F1/38;G03F1/50;G03F1/54;G03F1/68;H01L21/027;(IPC1-7):G03C5/00;G03F9/00 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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