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发明名称 METHOD AND DEVICE FOR TREATING TABULAR SUBSTRATES, ESPECIALLY SILICON WAFERS FOR PRODUCING MICROELECTRONIC ELEMENTS
摘要
申请公布号 KR20020018183(A) 申请公布日期 2002.03.07
申请号 KR1020017008992 申请日期 2001.07.16
申请人 发明人
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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