Method of manufacturing fine mesh by using silicon substrate
摘要
<p>실리콘 기판을 이용한 미세 메쉬 제조 방법을 개시한다. 본 발명의 미세 메쉬 제조 방법은, 실리콘 기판의 일면 상에 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막을 형성시킨 후, 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막이 형성된 일면의 반대면의 실리콘 기판의 일부를 습식 식각하여 그 두께를 줄이고, 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막에 다수의 미세 구멍을 형성하고, 두께가 줄어든 부분의 실리콘 기판을 습식 식각으로 제거하여 미세 구멍을 노출한다.</p>
