发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Belichtung einer strahlungsempfindlichen Schicht mittels geladener Teilchen sowie Maske hierfür
摘要 Es wird eine Projektionsvorrichtung zum Abbilden eines Musters einer Maske (31) auf ein mit einer strahlungsempfindlichen Schicht versehenes Substrat mittels eines Strahls projizierter geladener Teilchen vorgeschlagen, DOLLAR A wobei die Maske (31) aufweist: DOLLAR A - eine Membranschicht (37) aus einem ersten Material, DOLLAR A - das Muster bildende Streubereiche (39) aus einem die geladenen Teilchen stärker als die Membranschicht (37) streuenden zweiten Material und DOLLAR A - eine Mehrzahl von sich geradlinig erstreckenden, mit Abstand voneinander angeordneten und die Membranschicht (37) samt der Streubereiche (39) tragenden Stützstegen (33), DOLLAR A und wobei die Projektionsvorrichtung umfaßt: DOLLAR A - eine Strahlformungseinrichtung (45) zum Erzeugen des Projektionsstrahls (41) mit einem vorbestimmten Projektionsstrahlquerschnitt in der Maskenebene, DOLLAR A - eine Positionier-Bewegungseinrichtung (57, 55), um den Projektionsstrahlquerschnitt (45) in der Maskenebene entlang einer vorbestimmten Bahn parallel zu der Erstreckungsrichtung der Stege (33) über die Maske (31) zu bewegen. DOLLAR A Die Projektionsvorrichtung zeichnet sich dadurch aus, daß ein Sensor (65) zur Abgabe eines Meßsignals (69) vorgesehen ist, welches von der Anzahl der geladenen Teilchen abhängt, die einen an der Maske (31) vorgesehenen Markierungsbereich (61) treffen.
申请公布号 DE10041040(A1) 申请公布日期 2002.03.07
申请号 DE2000141040 申请日期 2000.08.22
申请人 CARL ZEISS 发明人 KIENZLE, OLIVER;ORCHOWSKI, ALEXANDER
分类号 G03F7/20;G03F1/00;H01J37/304;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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