发明名称 液相沉积生产装置
摘要 本实用新型系有关于一种液相沉积(LPD)生产装置,其主要构造包括一组饱和反应设备、一组稳流过饱和循环反应设备、一组溶液化学浓度自动监控设备,及一组废液回收处理设备。其中饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置、搅拌器、过滤装置。稳流过饱和循环反应设备含一只过饱和反应槽、一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置、搅拌器、过滤循环装置。废液回收处理设备包含两只以上的废液储存槽。其中并搭配相关管路阀体控制组件。由于本实用新型采用单槽密闭、双出入口暨两侧溢流式稳流循环设备进行低温液相沉积,可使饱和反应液过滤、循环、加热使用,达到良好的沉积薄膜可靠度。
申请公布号 CN2480380Y 申请公布日期 2002.03.06
申请号 CN01224833.9 申请日期 2001.05.28
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 梁沐旺;蒋邦民;陈朝明;黄振荣;叶清发
分类号 C23C18/00 主分类号 C23C18/00
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 刘国平
主权项 1.一种液相沉积生产装置,其特征在于包括:一组饱和反应设备,该饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置;一组稳流过饱和循环反应设备,该稳流过饱和循环反应设备包含一只过饱和反应槽、至少一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置,并以相关管路阀体控制组件与所述的饱和反应设备相连通。
地址 中国台湾