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发明名称 Non-corrosive cleaning composition for removing plasma etching residues
摘要
申请公布号 EP0829768(B1) 申请公布日期 2002.03.06
申请号 EP19970306717 申请日期 1997.09.01
申请人 ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. 发明人 HONDA, KENJI;MAW, TAISHIH
分类号 G03F7/32;C23G1/22;G03F7/40;G03F7/42;H01L21/02;H01L21/306;H01L21/3213;(IPC1-7):G03F7/42 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
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