发明名称 |
SYSTEM FOR CHARACTERIZING AC PROPERTIES OF A PROCESSING PLASMA |
摘要 |
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申请公布号 |
EP0631711(B1) |
申请公布日期 |
2002.03.06 |
申请号 |
EP19930907560 |
申请日期 |
1993.03.18 |
申请人 |
ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. |
发明人 |
HECKMAN, RANDY, L. |
分类号 |
C23C14/54;C23F4/00;H01J37/32;H05H1/00;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/00 |
主分类号 |
C23C14/54 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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