发明名称 清洗槽
摘要 一种清洗槽,其包括:一清洗槽本体,具有底部及侧面;一输送干管,设置于该清洗槽本体之底部;以及复数个歧管,设置于该输送干管上且该等歧管之口径大小是沿着该输送干管之末端方向而渐增。该清洗槽本体更具有一溢水口,设置于靠近该输送干管之末端之该清洗槽本体之侧面之上缘上。
申请公布号 TW478410 申请公布日期 2002.03.01
申请号 TW089213744 申请日期 2000.08.08
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 黄益成;陈俊雄
分类号 B08B11/00 主分类号 B08B11/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种清洗槽,其包括:一清洗槽本体,具有底部及侧面;一输送干管,设置于该清洗槽本体之底部;以及复数个歧管,设置于该输送干管上且该等歧管之口径大小是沿着该输送干管之末端方向而渐增。2.如申请专利范围第1项所述之清洗槽,其中,该清洗槽本体上更具有一溢水口,设置于靠近该输送干管之末端之该清洗槽本体之侧面之上缘上。3.如申请专利范围第2项所述之清洗槽,其中,该溢水口所在之该侧面与被清洗物间预留一既定的空间。图式简单说明:第1A及1B图系传统清洗槽之构造之剖面示意图。第2A及2B图系依据本创作实施例之清洗槽之构造之剖面示意图。
地址 新竹科学工业园区园区三路一二一号