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Procedimiento y dispositivo para el tratamiento de vajillas en un lavavajillas. Para crear un procedimiento para el tratamiento de vajilla en lavavajillas, en el que por medio de un procedimiento óptico se determinan datos más exactos sobre las porciones de suciedad y/o las porciones de agente de limpieza de un baño de lavar (40) y que se pueden tener en cuenta en la optimización o control del programa de lavar, se irradia una radiación (32,32'') en un baño de lavar (40), se calcula o detecta para al menos una zona de longitudes de onda, preferentemente una longitud de onda, la cantidad de radiación de la radiación (34, 34'', 36, 36'', 38, 38'') que sale de nuevo en cada caso bajo un ángulo predeterminado, partiendo de ello se determina el tipo y la concentración de porciones de suciedad y/o de porciones de agentes de limpieza del baño de lavar (40) y se optimiza el programa de lavar con la ayuda de estos datos calculados, y para crear un dispositivo para la realización del procedimiento segúnla invención, aquél presenta al menos una fuente de radiación (31, 31''), que emite radiación en al menos una zona de longitudes de onda, preferentemente una longitud de onda, al menos un receptor de radiación (33, 33'', 35, 35'', 37, 37'') para la determinación de la cantidad de radiación dejada pasar (34, 34'') por el baño de lavar y/o dispersada lateralmente (36, 36'') y/o dispersada hacia atrás (38,38''), y al menos una unidad (39) para la activación de al menos una fuente de radiación (31,31'') y para la evaluación de la señal de al menos un receptor de radiación (33, 33'', 35, 35'', 37, 37'').
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