发明名称 METHODS FOR PRODUCING PASSIVE COMPONENTS ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要 <p>Für die Herstellung von passiven Bauelementen auf einem Substrat werden Verfahren angegeben, welche mit geringem Aufwand und guter Ausbeute die Erzeugung unterschiedlicher Bauelemente, insbesondere hochohmige und niederohmige Widerstands-Elemente und/oder Kapazitäts-Elemente mit höherem und solche mit niedrigerem Kapazitätsbelag auf einem Substrat erlauben. Dabei kann auf lift-off-Prozesse weitgehend, insbesondere bei kritischen Strukturierungen verzichtet werden und selektiv trocken- und/oder nasschemisch geätzt werden.</p>
申请公布号 WO2002015273(A2) 申请公布日期 2002.02.21
申请号 DE2001002925 申请日期 2001.08.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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