发明名称 |
Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Zinn-Silber-Legierungsschichten und Verwendung des Elektrolyten |
摘要 |
Die vorliegende Erfindung beschreibt einen sauren Elektrolyten zur Abscheidung von Zinn-Silber-Legierungen, der eine oder mehrere Alkylsulfonsäuren und/oder Alkanolsulfonsäuren, ein oder mehrere lösliche Zinn(II)salze, ein oder mehrere lösliche Silber(I)salze und ein oder mehrere organische Schwefelverbindungen mit einer oder mehreren Thioetherfunktionen und/oder Etherfunktionen der allgemeinen Formel -R-Z-R'- (R und R' sind gleiche oder verschiedene nichtaromatische organische Reste, Z ist S oder O) umfasst. Weiterhin wird ein Verfahren, das den Elektrolyten einsetzt, und die durch das Verfahren erhältliche Beschichtung sowie die Verwendung des Elektrolyten zur Beschichtung elektronischer Bauteile zur Verfügung gestellt.
|
申请公布号 |
DE10026680(C1) |
申请公布日期 |
2002.02.21 |
申请号 |
DE20001026680 |
申请日期 |
2000.05.30 |
申请人 |
DR.-ING. MAX SCHLOETTER GMBH & CO KG |
发明人 |
DIETTERLE, MICHAEL;JORDAN, MANFRED;STRUBE, GERNOT |
分类号 |
C25D3/56;C25D3/60;H01L23/50;(IPC1-7):C25D3/60;C25D3/64 |
主分类号 |
C25D3/56 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|