| 发明名称 | 用于调节磁头单元角位置的方法和装置 | ||
| 摘要 | 能够从弹性部件的一个小位移产生静态角位置中的一个显著改变。在磁头单元(95)中的弹性部件(12)受应力以便调节该静态角位置,同时,该应力区域(14)由一个激光束LA照射。 | ||
| 申请公布号 | CN1336664A | 申请公布日期 | 2002.02.20 |
| 申请号 | CN01121290.X | 申请日期 | 2001.06.13 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 细川明博;山口哲;大桥诚;林光雄 |
| 分类号 | G11B21/21 | 主分类号 | G11B21/21 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 蔡民军;林长安 |
| 主权项 | 1.一种调节包括一个磁头支架和一个磁头的磁头单元的静态角位置的方法，该磁头支架包括一个连接该磁头的弹性部件，包括步骤：对于用于调整该静态角位置的该弹性部件上施加一个弯曲，和把一个激光束照射在施加有该弯曲的该弹性部件的区域。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||