| 发明名称 | 吸垫 | ||
| 摘要 | 一种吸垫,所述吸垫包括:一个与负压供给源相连的基座部分和一个与所述工件接触以形成一负压空间的裙边部分,其中,裙边部分有多个基本椭圆形的凸起和一个形成于其吸引表面上的凹陷部分。该裙边部分在同心圆上沿裙边部分的周向彼此分开预定间距。该凹陷部分能使负压下的流体供给到除该凸起外的整个吸引表面上。即使油膜或水滴粘附在工件的被吸引表面上,该工件也能被可靠吸住,而不会引起滑动。 | ||
| 申请公布号 | CN1336272A | 申请公布日期 | 2002.02.20 |
| 申请号 | CN01124468.2 | 申请日期 | 2001.07.31 |
| 申请人 | SMC株式会社 | 发明人 | 永井茂和;山本正义 |
| 分类号 | B25J15/06;B23Q7/04;B66C1/02 | 主分类号 | B25J15/06 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王宪模 |
| 主权项 | 1.一种能够吸住和运送工件的吸垫，所述吸垫包括： 一个与负压供给源相连的基座部分(16)和一个与所述工件(44)接触以形成一负压空间的裙边部分(22)，其中，所述裙边部分(22)有多个彼此分离预定间距的凸起(34)和一个形成于该裙边部分的吸引表面(32)上的凹陷部分(36)，所述凹陷部分(36)使得负压下的流体能供给到除所述凸起(34)之外的整个所述吸引表面(32)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||