摘要 |
LA INVENCION SUMINISTRA UN DERIVADO DE LA PIRAZOLO[1,5A]PIRIMIDINA DE LA FORMULA (I) EN LA QUE R1 ES HIDROGENO, ALQUIL INFERIOR QUE PUEDE TENER TIENIL, ALCOXIDO INFERIOR, ALQUILTIO INFERIOR, OXO O HIDROXILO COMO SUSTITUYENTE, CICLOALQUILO, TIENILO, FURILO, ALQUENILO INFERIOR O FENILO QUE PUEDE TENER ENTRE 1 Y 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS ENTRE EL GRUPO QUE CONSTA DE ALQUILO INFERIOR, ALCOXIDO INFERIOR, FENILTIO Y HALOGENO; R2 ES NAFTILO, CICLOALQUILO, FURILO, TIENILO, PIRIDILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON HALOGENO, FENOXIDO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON HALOGENO O FENILO QUE PUEDE TENER ENTRE 1 Y 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS ENTRE EL GRUPO QUE CONSTA DE ALQUILO INFERIOR, ALCOXIDO INFERIOR, HALOGENO, NITRO, ALQUILO INFERIOR SUSTITUIDO CON HALOGENO, ALCOXIDO INFERIOR SUSTITUIDO CON HALOGENO, ALCOXICARBONILO INFERIOR, HIDROXILO, FENILALCOXIDO INFERIOR, AMINO, CIANO, ALCANOILOXIDO INFERIOR, FENILO Y DIALCOXIFOSFORILALQUILO INFERIOR; R3 ES HIDROGENO, FENILO O ALQUILO INFERIOR; R4 ES HIDROGENO,ALQUILO INFERIOR, ALCOXICARBONILO INFERIOR, FENILALQUILO INFERIOR, FENILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON FENILTIO, O HALOGENO; R5 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR; R6 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, FENILALQUILO INFERIOR, O BENZOILO QUE TIENE ENTRE 1 Y 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS ENTRE EL GRUPO QUE CONSTA DE ALCOXIDO INFERIOR, ALQUILO INFERIOR SUSTITUIDO CON HALOGENO; R1 Y R5 PUEDEN CONJUNTAMENTE FORMAR ALQUILENO INFERIOR; Q ES CARBONILO O SULFONILO; A ES UN ENLACE SIMPLE, ALQUILENO INFERIOR O ALQUENILENO INFERIOR; N ES 0 O 1. ESTE DERIVADO ES UTIL COMO POTENTE ANALGESICO.
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申请人 |
OTSUKA PHARMACEUTICAL FACTORY, INC. |
发明人 |
SHOJI, YASUO;INOUE, MAKOTO;OKAMURA, TAKASHI;HASHIMOTO, KINJI;OHARA, MASAYUKI;YASUDA, TSUNEO |