| 发明名称 |
PROCEDIMIENTO DE ANALISIS ELEMENTAL POR ESPECTROMETRIA DE EMISION OPTICA EN UN PLASMA PRODUCIDO POR UN RAYO LASER EN PRESENCIA DE ARGON. |
| 摘要 |
PROCESO DE ANALISIS ELEMENTAL POR ESPECTROMETRIA DE EMISION OPTICA SOBRE PLASMA PRODUCIDO POR LASER EN PRESENCIA DE ARGON. SEGUN LA INVENCION, EL PROCESO CONSISTE; EN ATMOSFERA NATURAL, EN: MUESTRA (6) A ANALIZAR Y ENFOCAR UN HAZ LASER (4) SOBRE DICHA MUESTRA A ANALIZAR DE MANERA A PRODUCIR UN PLASMA (12 SOBRE LA SUPERFICIE DE ESTA MUESTRA; IACION LUMINOSA EMITIDA POR EL PLASMA; Y DE ESTE ANALISIS DE ESPECTRO, LA COMPOSICION ISOTOPICA DE LA MUESTRA.
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| 申请公布号 |
ES2164093(T3) |
申请公布日期 |
2002.02.16 |
| 申请号 |
ES19940402612T |
申请日期 |
1994.11.17 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
ANDRE, NADINE;MAUCHIEN, PATRICK;SEMEROK, ALEXANDRE |
| 分类号 |
G01N21/63;G01N21/71;(IPC1-7):G01N21/71 |
主分类号 |
G01N21/63 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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