| 主权项 |
1.一种后发泡型去垢剂组合物,其包含:一种界面活性剂系统,包括第一界面活性剂,选自两性界面活性剂之族群,及视需要之第二界面活性剂,选自阴离子界面活性剂之族群;一种挥发性烃溶剂,其中挥发性烃溶剂系选自正戊烷、异戊烷C1-C6烷醚之族群及其混合物,且以组合物重量计为1至7百分比;水;及以组合物重量计为0.5至20百分比之聚环氧伸烷嵌段共聚物界面活性剂。2.根据申请专利范围第1项之组合物,其中聚环氧伸烷嵌段共聚物界面活性剂包括至少一个聚环氧乙烷嵌段物及至少一个聚环氧丙烷嵌段物。3.根据申请专利范围第1项之组合物,其中界面活性剂系统包含硫酸烷醚。4.根据申请专利范围第1项之组合物,其中界面活性剂系统包含甜菜硷。5.根据申请专利范围第1项之组合物,其中更包含活性成份。6.根据申请专利范围第5项之组合物,其中活性成份选自二氯苯氧氯酚、葡萄糖酸双氯苯双脉己烷及水杨酸所组成之族群。7.根据申请专利范围第1项之组合物,其中聚环氧伸烷嵌段共聚物为一具有聚环氧丙烷中心嵌段物及聚环氧乙烷端嵌段物之三嵌段共聚物。8.根据申请专利范围第1项之组合物,其中聚环氧伸烷嵌段共聚物为一具有环氧乙烷中心嵌段物及环氧丙烷端嵌段物之三嵌段共聚物。9.根据申请专利范围第1项之组合物,其中聚环氧伸烷嵌段共聚物具有下式:其中A为环氧丙烷重覆单元之嵌段物而B为环氧乙烷重覆单元之嵌段物。10.根据申请专利范围第1项之组合物,其中聚环氧伸烷嵌段共聚物具有下式:其中A为环氧丙烷重覆单元之嵌段物而B为环氧乙烷重覆单元之嵌段物。11.一种后发泡型去垢剂组合物,其包含:以组合物重量计为1至7百分比的戊烷;水;及有效戊烷溶解量之界面活性剂系统,包含可可基羧乙磺酸铵及两性界面活性剂。12.根据申请专利范围第11项之组合物,其中两性界面活性剂为甜菜硷。13.根据申请专利范围第11项之组合物,其中戊烷系选自正戊烷、异戊烷及组合之族群。14.根据申请专利范围第12项之组合物,其中甜菜硷系选自可可醯胺丙基甜菜硷、山基甜菜验及巴巴苏醯胺丙基甜菜硷。15.根据申请专利范围第11项之组合物,其更包含活性成份。16.根据申请专利范围第11项之组合物,其中活性成份系选自二氯苯氧氯酚、葡萄糖酸双氯苯双脉己烷及水杨酸所组成之族群。17.一种防止挥发性烃自界面活性剂系统分离之方法,该法包括:形成一种含一种或多种选自阴离子界面活性剂、两性界面活性剂及其组合之族群及以组合物重量计为0.5至20百分比之聚环氧伸烷嵌段共聚物界面活性剂之水溶液;将挥发性烃溶剂与水溶液混合以形成透明溶液或胶,其中挥发性烃溶剂系选自正戊烷、异戊烷C1-C6烷醚及其混合物,且以组合物重量计为1至7百分比;及将透明溶液或胶存入封闭容器内。18.一种防止戊烷自界面活性剂系统分离之方法,该法包括:形成含可可基羧乙磺酸铵及两性界面活性剂之水溶液;将戊烷与水溶液混合以形成透明溶液或胶;及将透明溶液或胶存入封闭容器内。 |
