| 主权项 |
1.一种光学测量配置,其具有:一种椭圆计(45),具有 极化光之一种入射光束(23)以角度≠90对准试样 (P)之表面上之测量位置(M)且由所反射之射出光束( 24)可推知试样之性质(特别是层厚度);一种装置,用 来在试样表面之法线与入射光束(23)和射出光束(24 )之间之角平分线(25)之间测定与修正方向之偏差, 其特征为: -方向控制光束(30)在角平分线(25)之方向中对准此 测量位置(M), -设有光学元件使方向控制光束(30)之反射光映射 在位置敏感之平面侦测器上, -平面侦测器是与计算电路(46)相连接, -在计算电路(46)之各输出端可使用各设定命令以 用于一种设定系统(47,47a)中,藉此设定系统可使试 样桌(12)(其上放置着试样(P))倾斜,直至平面侦测器 上之反射光之位置对应于一预设之位置为止,此时 试样表面之法线之方向是与角平分线(25)之方向一 致。2.如申请专利范围第1项之光学测量配置,其中 设有四象限侦测器(39)作为平面侦测器,此种由反 射光入射至每一象限之光量作为计算标准且促使 此试样桌(12)(其上放置着试样(P))倾斜直至全部4个 象限都入射相同之光量为止。3.如申请专利范围 第1或第2项之光学测量配置,其中设有一种可聚焦 之二极体雷射(33)(其波长最好是670nm)作为方向 控制光束(30)之光源,在二极体雷射(33)和试样(P)之 表面之间的光束路径中设有极化分光器(35)和配置 于其后之/4-板(36),此时方向控制光束(30)之反射 光由极化分光器(35)之分光面偏向至四象限感测器 。4.如申请专利范围第1项之光学测量配置,其具有 :一种椭圆计(45),具有极化光之一种入射光束(23)以 角度≠90对准试样(P)之表面上之测量位置(M)且 由所反射之射出光束(24)可推知试样之性质(特别 是层厚度);一种装置,用来在试样表面之法线与入 射光束(23)和射出光束(24)之间之角平分线(25)之间 测定与修正方向之偏差;一种分光计,此处一种试 样测量光束(7)经由反射物镜(11)(其具有一种未被 此试样测量光束(7)所使用之空的孔径空间)而对准 此试样(P)且此种由试样(P)反射回到此反射物镜(11) 之光束传送至光谱仪(9)以进行计算,其特征为:引 导此方向控制光束(30)所用之光学元件设置在反射 物镜(11)之未被使用之空的孔径空间中。5.如申请 专利范围第4项之光学测量配置,其中在反射物镜( 11)之未被使用之空的孔径空间中设有一种偏向镜( 38),由此使方向控制光束(30)对准此测量位置(M),此 试样测量光束(7)构成一种由反射物镜(11)开始之光 束中空锥体(40),其锥体尖端位于测量位置(M)中,且 该方向控制光束(30)在光束中空锥体(40)之内部传 送。6.一种光学测量配置,其由下述元件构成:反射 物镜(11),其具有一种中央镜(41),用来确定阴影区(41 a),此反射物镜(11)对此试样(P)上之测量位置(M)进行 照明且成像;水准仪(29),其具有:一个光学辐射源(33 ),方向控制光束(30)和位置解析用之侦测器(39),其 特征为:至少一个光学元件(38)配置在反射物镜(11) 之中央镜(41)之阴影区(41a)中且使方向控制光束(30) 沿着反射物镜(11)之光轴(32)传送而对准试样(P)之 测量位置(M);此光学元件(38)使此种由测量位置(M) 所反射之方向控制光束(30)对准该侦测器(39)。7.如 申请专利范围第6项之光学测量配置,其中须配置 此光学元件(38),使方向控制光束(30)平行于反射物 镜(11)之光轴(32)而对准且设有一种分光器(35)以便 使此种由测量位置(M)所反射之方向控制光束(30)耦 合而出且对准此侦测器(39)。8.如申请专利范围第6 项之光学测量配置,其中须配置此光学元件(38),使 此种对准该测量位置(M)且由此测量位置(M)所反射 之方向控制光束(30)大约倾斜于反射物镜(11)之光 轴(32)。9.如申请专利范围第6至8项中任一项之光 学测量配置,其中设有一种计算电路(46)以便计算 此侦测器之信号且设有一种设定系统(47,47a)以便 改变此试样(P)之倾斜度,其可调整此测量位置(M)上 之垂直线与光轴(32)之间之倾斜偏差至一指定之値 。10.一种测量该试样(P)上由物镜(11)所映射之测量 位置(M)之倾斜度之方法,其特征为以下各步骤: -藉由光源(33)产生一种方向控制光束(30), -使此方向控制光束(30)向物镜(11)之光轴(32)方向传 送,此方向控制光束(30)到达物镜(11)和测量位置(M) 之间之区域中, -使方向控制光束(30)偏向至测量位置(M)之方向中, -使方向控制光束(30)反射至测量位置(M), -使已反射之方向控制光束(30)由光轴(32)附近离开 而偏向至物镜(11)和测量位置(M)之间之区域中, -由位置解析用之侦测器(39)接收此种已反射之方 向控制光束(30), -由侦测器(39)之信号来测定此测量位置(M)上之垂 直线相对于物镜(11)之光轴(32)所形成之倾斜偏差 値。11.如申请专利范围第10项之方法,其中此方向 控制光束(30)在物镜(11)和测量位置(M)之间的区域 中平行于物镜(11)之光轴(32)而传送。12.如申请专 利范围第10项之方法,其中此方向控制光束(30)在物 镜(11)和测量位置(M)之间以相对于物镜(11)之光轴( 32)成很小之倾斜度而传送。13.如申请专利范围第 10至12项中任一项之方法,其中此物镜(11)是一种具 有中央镜(41)之反射物镜且此中央镜(41)界定一种 阴影区(41a),方向控制光束(30)偏向至反射物镜之中 央(41)之阴影区(41a)中。14.如申请专利范围第10至12 项中任一项之方法,其中 -藉由计算电路(46)来计算此侦测器(39)之信号, -须藉由此设定系统(47,47a)来调整此试样(P)之倾斜 度,以便在试样(P)之测量位置(M)上之垂直线和物镜 (11)之光轴(32)之间调整一种预定之角度。15.如申 请专利范围第13项之方法,其中 -藉由计算电路(46)来计算此侦测器(39)之信号, -须藉由此设定系统(47,47a)来调整此试样(P)之倾斜 度,以便在试样(P)之测量位置(M)上之垂直线和物镜 (11)之光轴(32)之间调整一种预定之角度。16.如申 请专利范围第10至12项中任一项之方法,其中 -藉由计算电路(46)来计算此侦测器(39)之信号, -须藉由此设定系统(47,47a)来调整此试样(P)之倾斜 度,使物镜(11)之光轴(32)垂直于测量位置(M)。17.如 申请专利范围第13项之方法,其中 -藉由计算电路(46)来计算此侦测器(39)之信号, -须藉由此设定系统(47,47a)来调整此试样(P)之倾斜 度,使物镜(11)之光轴(32)垂直于测量位置(M)。图式 简单说明: 第1图 光学测量配置之全部构造,其具有柜圆计,分 光计,水准仪及聚焦测量装置。 第2图 本发明导引此方向控制光束之第一种形式 。 第3图 反射物镜上之方向控制光束用之偏向镜配 置。 第4图 本发明导引此方向控制光束之第二种形式 。 第5图 四象限接收器之接收面上之方向中之观测 图。 第6图 该设定系统上之试样桌之承载位置。 第7图 属于水准仪之计算电路之图解。 |
