发明名称 SUSPENSION DE SILICE COLLOIDALE
摘要 <P>La présente invention met à disposition une suspension de silice colloïdale n'ayant aucune répercussion indésirable, telle qu'une corrosion, sur une galette de silicium ou un matériau de câblage sur une galette de silicium, et qui inhibe la prolifération des microorganismes, son aptitude à conserver sa stabilité étant élevée du fait de l'excellente stabilité de la granulométrie des particules colloïdales, avec possibilité d'utilisation continue sur un long laps de temps. A cette fin, la suspension de silice colloïdale selon l'invention est additionnée de 5 à 100 ppm de peroxyde d'hydrogène.</P>
申请公布号 FR2812563(A1) 申请公布日期 2002.02.08
申请号 FR20010009620 申请日期 2001.07.18
申请人 FUSO CHEMICAL CO., LTD. 发明人 SHIGETOYO MATSUMURA;YUKO OKADA;TATSUO MANAKI;KEIJI TOYAMA;MASATOSHI SAKAI
分类号 C01B33/14;B01J13/00;C01B33/141;C01B33/145;C09K3/14 主分类号 C01B33/14
代理机构 代理人
主权项
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