| 发明名称 | 一种用于沉积制备薄膜的装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于沉积制备薄膜的装置，它是由导轨、转轴、圆形基片夹具组成，导轨与转轴相连，导轨中心线与转轴轴线有一夹角，圆形基片夹具置于导轨凹槽中，在凹槽中，圆形基片夹具和导轨有一个间隙，该装置实际上是以单轴带动实现基片的准双轴的旋转，它能在保证薄膜两面的一致性的前提下提高薄膜的均匀性。本实用新型结构简单、成本低、易于实现。 | ||
| 申请公布号 | CN2475739Y | 申请公布日期 | 2002.02.06 |
| 申请号 | CN01206056.9 | 申请日期 | 2001.04.26 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 陶伯万;刘兴钊;罗安;李言荣;何世明;陈家俊 |
| 分类号 | C23C14/22 | 主分类号 | C23C14/22 |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1.一种用于沉积制备薄膜的装置，其特征是：它是由导轨(1)、电机带动的转轴(2)、圆形基片夹具(3)组成，导轨(1)与电机带动的转轴(2)相连，导轨中心线(b)与转轴轴线(a)有一夹角α，导轨(1)上有凹槽(6)，圆形基片夹具(3)置于导轨(1)凹槽(6)中，在凹槽(6)中，圆形基片夹具(3)和导轨(1)有一个间隙(7)。 | ||
| 地址 | 610054四川省成都市建设北路二段四号 | ||