| 发明名称 |
Process for making a photoresist pattern and photoresist composition containing an oxidising compound |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0614126(B1) |
申请公布日期 |
2002.02.06 |
| 申请号 |
EP19940400427 |
申请日期 |
1994.03.01 |
| 申请人 |
FRANCE TELECOM |
发明人 |
WEILL, ANDRE;ROMAND, PHILIPPE |
| 分类号 |
G03F7/022;G03F7/26;G03F7/30;G03F7/40;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/40 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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