光罩抗反射层结构

摘要

本发明揭示一种利用费比-培洛(Fabry Perot)结构作为光罩的抗反射层，其系由金属顶层/透光层/金属底层之堆叠式结构所构成。本发明之抗反射层结构具有高品质，可适用于先进深紫外光与真空紫外光光罩抗反射层使用，并藉由调整抗反射层的膜材与厚度，吾人可轻易在所需要的曝光波长调整出最小反射率。此外，由于本发明之抗反射层具有金属顶层，因此可有效减轻光罩制作时的电荷累积效应。

主权项

1.一种光罩抗反射层,适用于一光罩基板,包括:一金属底层设置于该基板上;一透光性中间层设置于该底层上;以及一金属顶层设置于该中间层上。2.如申请专利范围第1项所述之光罩抗反射层,其中该光罩基板为玻璃或石英。3.如申请专利范围第1项所述之光罩抗反射层,其中该金属底层与金属顶层之材质系择自下列所组成之族群:铬、铝、以及钨。4.如申请专利范围第3项所述之光罩抗反射层,其中该金属底层与金属顶层为相同之材质。5.如申请专利范围第1项所述之光罩抗反射层,其中该金属底层之厚度足使光吸收度(optical density)大于3。6.如申请专利范围第1项所述之光罩抗反射层,其中该透光性中间层之材质系择自下列所组成之族群:氧化矽、金属氧化物、以及金属氟化物。7.如申请专利范围第6项所述之光罩抗反射层,其中该透光性中间层之材质为氧化矽。8.一种光罩抗反射层,适用于一光罩基板,包括:一铬金属底层设置于该基板上;一氧化矽层设置于该底层上;以及一铬金属顶层设置于该中间层上。9.如申请专利范围第8项所述之光罩抗反射层,其中该铬金属底层之厚度至少70nm。10.如申请专利范围第8项所述之光罩抗反射层,其中该铬金属顶层之厚度为3.5-12nm。11.一种含有Fabry-Perot结构作为抗反射层之光罩,包括:一光罩基板;一金属底层设置于该光罩基板上;一透光性中间层设置于该底层上;以及一金属顶层设置于该中间层上。12.如申请专利范围第11项所述之光罩,其中该光罩基板为玻璃或石英。13.如申请专利范围第11项所述之光罩,其中该金属底层与金属顶层之材质系择自下列所组成之族群:铬、铝、以及钨。14.如申请专利范围第13项所述之光罩,其中该金属底层与金属顶层为相同之材质。15.如申请专利范围第11项所述之光罩,其中该金属底层之厚度使得光吸收度(optical density)大于3。16.如申请专利范围第11项所述之光罩,其中该透光性中间层之材质系择自下列所组成之族群:氧化矽、金属氧化物、以及金属氟化物。17.如申请专利范围第16项所述之光罩,其中该透光性中间层之材质为氧化矽。18.一种含有Fabry-Perot结构作为抗反射层之光罩,包括:一光罩基板一铬金属底层设置于该基板上;一氧化矽层设置于该底层上;以及一铬金属顶层设置于该中间层上。19.如申请专利范围第18项所述之光罩,其中该铬金属底层之厚度至少70nm。20.如申请专利范围第18项所述之光罩,其中该铬金属顶层之厚度为3.5-12nm。图式简单说明:第1图系显示本发明之抗反射层结构之剖面示意图。第2图显示铬膜在深紫外光区的反射率。第3图显示加入本发明之抗反射层后,铬膜在193nm附近的反射率。第4图显示加入本发明之抗反射层后,铬膜在248nm附近的反射率。第5图显示底层铬之厚度与反射率之关系图。第6图显示底层铬二厚度与光吸收度的关系图。第7图显示底层铬之厚度与反射率之关系图。第8图显示各种金属在140-250nm波长与反射率之关系图。