| 主权项 |
1.一种乾洗物件的方法,包括: 浸泡欲乾洗的该物件于一乾洗流体内,该乾洗流体 包括一环矽氧烷组合物; 于该环矽氧烷组合物中搅拌该物件; 藉由一离心动作和该物件周围的一循环气流将该 环矽氧烷组合物从该物件中移除; 将该环矽氧烷组合物从该物件中移除期间,保持该 循环气流的温度在华氏120-140度之间;以及 藉由冷却该物件低于华氏100度,以防止该物件产生 皱纹。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中欲 乾洗的该物件在搅拌之后,但在离心和加热之前, 藉由降低压力之真空下以减低该环矽氧烷组合物 的闪点。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中 该环矽氧烷组合物包括作为一溶剂的环五矽氧烷 和环四矽氧烷。4.如申请专利范围第3项所述之方 法,其中依据该溶剂的重量百分比来说,该环四矽 氧烷是80%,而该环五矽氧烷是20%。5.如申请专利范 围第1项所述之方法,其中该环矽氧烷组合物包括 一混合的八甲基-环四矽恶烷和十甲基-环五矽恶 烷。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该环 矽氧烷组合物包括一至少两种形式环矽氧烷的混 合物。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中更 包括将该物件盛装于在一清洗篮中。8.如申请专 利范围第7项所述之方法,其中该清洗篮包括复数 个直径在1/8-3/8英寸之间的洞。9.如申请专利范围 第1项所述之方法,其中更包括将该物件置于一部 份真空下。10.如申请专利范围第1项所述之方法, 其中该离心动作包括在从350RPM到1000RPM的速率下旋 转该物件。11.如申请专利范围第10项所述之方法, 其中该离心动作包括在从450RPM到750RPM的速率下旋 转该物件。12.如申请专利范围第1项所述之方法, 其中该离心动作只移除不超过该物件中3%的该环 矽氧烷组合物。13.如申请专利范围第1项所述之方 法,其中于该环矽氧烷组合物中搅拌该物件的时间 在3-10分钟。14.如申请专利范围第1项所述之方法, 其中更包括: 过滤该环矽氧烷组合物,以去除于该环矽氧烷组合 物中搅拌该物件时,渗入该环矽氧烷组合物中的杂 质。15.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该 乾洗流体更包括一清洁剂、一杀菌剂、悬浮剂和 增艳剂。16.如申请专利范围第1项所述之方法,其 中该物件藉由循环该气流经过一冷却线圈,以冷却 该物件。17.一种乾洗物件的方法,包括: 浸泡欲乾洗的该物件于一乾洗流体内,该乾洗流体 包括一环矽氧烷组合物; 于该组合物中搅拌该物件;以及 藉由一离心动作和加热将该组合物从该物件中移 除; 其中欲乾洗的该物件在搅拌之后,但在离心和加热 之前,藉由降低压力之真空下以减低该组合物的闪 点。18.如申请专利范围第17项所述之方法,其中该 组合物包括作为一溶剂的五聚物环矽氧烷和四聚 物环矽氧烷。19.如申请专利范围第17项所述之方 法,其中该组合物包括一清洁剂、一杀菌剂、悬浮 剂和增艳剂。20.一种乾洗物件的方法,包括: 将欲乾洗的该物件置于一组合式清洗乾燥机的清 洗篮中; 将一环矽氧烷组合物注入该清洗篮中; 在该清洗篮中搅拌该物件与该环矽氧烷成分; 在该清洗篮中离心该物件,以去除该物件中的该组 合物; 将该清洗篮中的该物件置于一部份真空下; 在该部份真空下加热该清洗篮中的该物件; 冷却该物件;以及 自该清洗篮中移除该物件。21.如申请专利范围第 20项所述之方法,其中该组合物包括一混合的八甲 基-环四矽恶烷和十甲基-环五矽恶烷。22.如申请 专利范围第20项所述之方法,其中该组合物包括一 至少两极形式环矽氧烷的混合物。23.如申请专利 范围第20项所述之方法,其中该组合物更包括一清 洁剂。24.如申请专利范围第20项所述之方法,其中 该组合物更包括至少一选自于清洁剂、杀菌剂、 悬浮剂和增艳剂之一的添加剂。图式简单说明: 第1图系绘示依照本发明第一较佳实施例,一种乾 洗流程的方块图。 |
