发明名称 METHOD FOR DETERMINING THE ABILITY TO PROJECT IMAGES OF INTEGRATED SEMICONDUCTOR SWITCHING CIRCUITS ONTO ALTERNATING PHASE MASKS
摘要 <p>Es wird ein Verfahren beschrieben, mittels dessen die direkte Umsetzbarkeit integrierter Halbleiterschaltkreise in alternierende Phasenmasken überprüft werden kann. Dies erfolgt durch eine explizite Lokalisierung der im entsprechenden Layout vorkommenden Phasenkonflikte unter alleiniger Verwendung der an das Design gestellten technologischen Anforderungen. Der mit Hilfe dieses Formalismus bestimmte Satz von Phasenkonflikten ist vollständig und minimal und erweist sich somit als optimaler Ausgangspunkt für Methoden zur Handhabung derartiger Konflikte.</p>
申请公布号 WO2002009152(A2) 申请公布日期 2002.01.31
申请号 DE2001002878 申请日期 2001.07.25
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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