METHOD AND DEVICE FOR THERMALLY TREATING A PHOTORESIST LAYER ON A CIRCUIT SUBSTRATE, ESPECIALLY A SEMICONDUCTOR WAFER

摘要

Verfahren zur thermischen Behandlung zum Trocknen oder Hartbacken einer Fotolackschicht auf einem Schaltungssubstrat, insbesondere Halbleiterwafer, wobei eine Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung, die einen Wirkanteil im Bereich des nahen Infrarots, insbesondere im Wellenlängenbereich zwischen 0,8 νm und 1,5 νm, hat.