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<p>Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Bauteils für die Herstellung optischer Fasern, das radial aufeinanderfolgende Schichten aus Quarzglas aufweist, die sich in ihrem Brechungsindex unterscheiden, umfasst die Herstellung einer Quarzglasschicht folgende Verfahrensschritte: (a) Erzeugen von SiO2-Partikeln durch Erhitzen einer siliziumhaltigen Ausgangsverbindung, die in einer Reaktionszone mit Sauerstoff reagiert, und Abscheiden einer SiO2-Sootschicht auf der Außenmantelfläche eines Trägerkörpers, (b) Trocknen der SiO2-Sootschicht durch Behandlung in einer trocknenden Atmosphäre, und (c) Verglasen der SiO2-Sootschicht durch Erhitzen mittels einer Heizquelle. Um dieses Verfahren so zu modifiziern, dass es zur Herstellung von Bauteilen für optische Fasern mit komplexem Brechzahlprofil geeignet ist, wird vorgeschlagen, dass in Verfahrensschritt a) die Ausgangsverbindung in einer durch Plasma erzeugten wasserstofffreien Reaktionszone mit Sauerstoff reagiert, dass die Verfahrensschritte a) bis c) mindestens einmal wiederholt werden, dass in Verfahrensschritt (a) eine SiO2-Sootschicht mit einer Schichtdicke von mindestens 10 mm erzeugt wird, und dass das Trocknen und Verglasen in einem elektrisch beheizten Ofen erfolgt.</p> |
