发明名称 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置
摘要 提供了一种用带图案的发射器发射光刻的方法和装置。发射光刻的装置中,热电发射器或铁电发射器使用掩模构图然后再加热的。加热时,发射器上被掩模盖住的地方不发射电子,未被掩模盖住的暴露部分发射电子,从而发射器图案的形状被投射到衬底上。为防止被发射电子束的散开,需要平行电子束,用磁铁、直流磁场发生器或是偏转系统来控制该电子束,从而把所需图案精确地1∶1或是X∶1投射刻蚀到衬底上。
申请公布号 CN1333482A 申请公布日期 2002.01.30
申请号 CN01104684.8 申请日期 2001.02.20
申请人 三星电子株式会社;弗吉尼亚技术知识资产公司 发明人 柳仁暻
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.一种提供发射光刻的1:1投射的装置包括:一个与衬底座相隔预定距离的平板型发射器,该平板型发射器在对着衬底座的表面上有一个所需的图案,发射器是由热电材料或是铁电材料形成的;一个用于加热该平板型发射器的加热源;以及配置在发射器和衬底座外面的、用于控制从平板型发射器发射出的电子的轨迹的磁铁或直流磁场发生器。
地址 韩国京畿道