| 发明名称 | 成像设备 | ||
| 摘要 | 一种成像设备,其中物体面(14)面对圆棒形透镜阵列(10)的一个端面放置,像面(16)面对其另一个端面放置。物体侧圆棒形透镜阵列的透镜工作距离基本上等于像侧的透镜工作距离。实际的物—像距离TC0设定在共轭长度TC1与共轭长度TC2之间,其中在共轭长度TC1上,透镜阵列在透镜阵列方向上的MTF的平均值MTF<SUB>ave</SUB>最大,在共轭长度TC2上,ΔMTF最小,及相对于共轭长度TC1位移量ΔTC设定在+0.05mm<ΔTC<+0.15mm的范围内,其中在共轭长度TC1上,MTF<SUB>ave</SUB>最大。 | ||
| 申请公布号 | CN1332381A | 申请公布日期 | 2002.01.23 |
| 申请号 | CN01120202.5 | 申请日期 | 2001.07.06 |
| 申请人 | 日本板硝子株式会社 | 发明人 | 小木秀也;壹岐耕一郎;远山实 |
| 分类号 | G02B6/08;G02B27/00 | 主分类号 | G02B6/08 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 姜丽楼 |
| 主权项 | 1.一种成像设备，该设备使用了单元放大图像圆棒形透镜阵列，该阵列包括许多以这样方式排列的圆棒形透镜，即它们的光轴彼此相互平行，每个圆棒形透镜在径向方向上都具有一个折射率分布，及其中物体面面对着圆棒形透镜的一个端面放置，像面面对着圆棒形透镜的另一个端面放置，物体侧圆棒形透镜阵列的透镜工作距离基本上等于像侧圆棒形透镜阵列的透镜工作距离，其中实际的物—像距离TC0设定在共轭长度TC1与共轭长度TC2之间，其中在共轭长度TC1上，透镜阵列在透镜阵列方向上的MTF的平均值MTFave最大，在共轭长度TC2上，ΔMTF(＝(MTFmax－MTFmin)/MTFave)最小， | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||