曝光装置、表面位置调节单元、掩模和器件制造方法

摘要

本发明公开一种曝光装置,它包括一个投影光学系统,该系统具有一个能够在一次拍摄中对扫描曝光装置中的拍摄区曝光的象场。这允许在拍摄区是扫描曝光装置的最大曝光范围时进行1对1的曝光。另外,主控制单元根据图案的最小线条宽度改变对曝光量有用的曝光系统的控制因子。只在允许降低曝光精度时改变控制因子,使得状态(或值)变到曝光量优先于分辨率的状态。与在所有时间以相同的曝光量因子控制曝光系统的情形相比,这使得本装置能够提高曝光量而同时维持曝光精度。

主权项

权利要求书1.一种曝光装置，该装置在掩模和基片处于稳定的状态下利用能量束经掩模对基片曝光，该曝光装置由一个曝光系统构成，曝光系统包括：一个投影光学系统，该系统具有一个足够大的象场，以致利用扫描曝光装置一次曝光的基片上的分区可以通过把从掩模出射的能量束投射到基片上一次拍摄曝光；和一个放置基片的基片台面。