| 发明名称 |
Deposited film forming process, deposited film forming apparatus and process for manufacturing semiconductor element |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU743048(B2) |
申请公布日期 |
2002.01.17 |
| 申请号 |
AU19980058292 |
申请日期 |
1998.03.09 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
TAKAHIRO YAJIMA;YASUSHI FUJIOKA;SHOTARO OKABE;MASAHIRO KANAI;HIROKAZU OHTOSHI;AKIRA SAKAI;TADASHI SAWAYAMA;YUZO KOHDA |
| 分类号 |
H01L31/02;H01L31/105;H01L31/20;(IPC1-7):H01L31/06;H01L31/075 |
主分类号 |
H01L31/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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