| 发明名称 | 对基质进行加工处理的装置 | ||
| 摘要 | 对基质(2)在液体容器(3)里进行加工处理的装置(1),它有一个可放置在这液体容器(3)上的基质接纳装置(4,68,88),它至少有一对侧向导向元件(35,36;55,56;75,76)。对不同大小基质(2)的接纳是通过使导向元件(35,36;55,56;75,76)可以对向相对运动而实现的。 | ||
| 申请公布号 | CN1331839A | 申请公布日期 | 2002.01.16 |
| 申请号 | CN99814921.7 | 申请日期 | 1999.12.03 |
| 申请人 | 施蒂格微技术有限公司 | 发明人 | M·斯托尔茨 |
| 分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 苏娟;赵辛 |
| 主权项 | 1.用于加工处理在一个液体容器(3)里的基质(2)的装置，它有一个可放置在该液体容器(3)上的基质接纳装置(4，68，88)，它至少有一对侧面导向元件(35，36；55，56；75，76)，其特征在于，导向元件(35，36；55，56；75，76)通过与基质的接触并通过其运动而可以相对运动。 | ||
| 地址 | 德国普里茨豪森 | ||