发明名称 |
Métodos de fabricação de revestimentos de baixo nìvel de névoa e os revestimentos e artigos revestidos fabricados desse modo |
摘要 |
"MéTODOS DE FABRICAçãO DE REVESTIMENTOS DE BAIXO NìVEL DE NéVOA E OS REVESTIMENTOS E ARTIGOS REVESTIDOS FABRICADOS DESSE MODO". Um revestimento de acordo com a invenção tem uma primeira camada substancialmente cristalina com uma segunda camada substancialmente cristalina provida sobre a primeira camada. Proveu-se uma camada interruptora, entre a primeira e segunda camadas, configurada para prevenir ou pelo menos reduzir o crescimento epitaxial da segunda camada sobre a primeira camada. Pode-se prover uma camada de supressão de cor abaixo da primeira camada. Pode-se prover o revestimento sobre um substrato para fazer um artigo revestido. Um método para revestir um substrato inclui depositar uma primeira camada substancialmente cristalina sobre pelo menos uma parte do substrato e depositar uma camada interruptora sobre a primeira camada. Configurou-se a camada interruptora para prevenir ou pelo menos reduzir o crescimento epitaxial de uma camada subseq³entemente depositada sobre a primeira camada. |
申请公布号 |
BR0010774(A) |
申请公布日期 |
2002.01.15 |
申请号 |
BR20000010774 |
申请日期 |
2000.03.15 |
申请人 |
PPG INDUSTRIES OHIO, INC. |
发明人 |
JANOS SZANYI;JOHN F. SOPKO;GEORGE A. NEUMAN |
分类号 |
C03C17/34;(IPC1-7):C03C17/00 |
主分类号 |
C03C17/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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