| 发明名称 |
PLANARIZED COPPER CLEANING FOR REDUCED DEFECTS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG85736(A1) |
申请公布日期 |
2002.01.15 |
| 申请号 |
SG20000006854 |
申请日期 |
2000.11.28 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
MADAHVI CHANDRACHOOD;SEN-HOU KO;FRED C. REDEKER;RAMIN EMANI;SHIJIAN LI |
| 分类号 |
H01L21/3205;H01L21/02;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/321;H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):C23F11/14;C23F1/18 |
主分类号 |
H01L21/3205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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