| 主权项 |
1.一种投射系统,其特征为具有:朝特定之被投射部投射影像之光的投射装置;摄取上述投射装置产生之投射影像的摄影装置;及依上述摄影装置之摄影结果进行特定处理的处理装置;上述摄影装置之摄影透镜,系配置在上述投射影像之光之直接反射光之反射领域外。2.如申请专利范围第1项之投射系统,其中上述投射装置系斜置型投射光学系,上述摄影装置之摄影透镜,当上述投射装置构成为令投射光投射于上方向侧之斜置型投射光学系时,系配置在较上述投射装置之投射领域下端更低之位置;当上述投射装置构成为令投射光投射于下方向侧之斜置型投射光学系时,系配置在较上述投射装置之投射领域上端更高之位置。3.如申请专利范围第1或2项之投射系统,其中上述被投射部,系由具特定反射率之高反射构件构成。4.一种投影机,系具有朝特定之被投射部投射影像之光之投射装置的投影机;其特征为具有:摄取上述投射装置产生之投射影像的摄影装置;上述摄影装置之摄影透镜,系配置在上述投射影像之光之直接反射光之反射领域外。5.如申请专利范围第4项之投影机,其中上述投射装置,系将投射光朝上方向侧投射之投射光学系;上述摄影装置之摄影透镜,系配置在较上述斜置型投射光学系之投射领域之下端更低之位置。6.如申请专利范围第4项之投影机,其中上述投射装置,系将投射光朝下方向侧投射之投射光学系;上述摄影装置之摄影透镜,系配置在较上述斜置型投射光学系之投射领域之上端更高之位置。7.如申请专利范围第4至6项中任一项之投影机,其中上述投射装置,系与上述摄影装置一体形成。8.如申请专利范围第4至6项中任一项之投影机,其中相对于上述投射装置之光轴,上述摄影装置之摄影透镜之摄影角度系形成可调整。9.如申请专利范围第4至6项中任一项之投影机,其中上述被投射部,系由具特定反射率之高反射构件构成。图式简单说明:第一图:由投影机对投影机等一般使用之萤幕、及以笔等可描绘、消去之所谓白板进行投射时,由投射光在被投射面直接反射之反射光中心看萤幕或白板时因倾斜角度引起之增益差异之模式图。第二图:一般之投射光学系,(A)系一般投射光学系之原理图,(B)系投射在被投射部之一般投射光学系之投射影像领域。第三图:斜置型投影光学系之投射光学系,(A)系斜置型投影光学系之原理图,(B)系投射在被投射部之斜置型投影光学系之投射影像领域。第四图:白板上之热光点之模式图。第五图:本实施形态中之投影机与CCD摄影机及白板间之位置关系图。第六图:本实施形态之投影机之外观图。 |
